SPS Polos SPIN200i
Anwendung
Beschichtung von Wafern
Spezifikation
• Für Wafer bis zu 200 mm
• Für Substrate bis zu 150 mm
• 12.000 U/min (je nach Substrat/Chuck)
• Hohe Beschleunigung und Genauigkeit
• Nordson Performus Dosiergerät x100
• LABOPORT N 840 Pumpe